特種氣體分類：高純氣體通常指利用現(xiàn)代提純技術(shù)能達到的某個等級純 度的氣體，對于不同類別的氣體，純度指標不同，大多用于超大規(guī)模集成電路及分離器 件、光電子等高科技領(lǐng)域；特種氣體的儲存注意事項：儲存場地的道路，應(yīng)占整個場地面積的20%以上。充填容器和空容器需要明確區(qū)分存放。充填容器入庫前需檢漏，長期存放的充填高壓容器需要每月復(fù)檢一次，并做記錄。滅菌特種氣體可殺滅細菌（及其內(nèi)孢子）、霉菌及真菌，因此可用于消毒一些不能耐受高溫消毒的物品。
特種氣體在太陽能電池中的應(yīng)用：晶體硅電池片生產(chǎn)中的擴散工藝用 到 POCl3 和 O2，減反射層 PECVD 工藝用到 SiH4、NH3，刻蝕工藝用到 CF4；滅菌特種氣體由于它的活潑型，殺菌力強、殺菌譜廣，對物品損害輕微等優(yōu)點，已成為目前主要的日常低溫滅菌方法之一，特種氣體的重要性：電子特種氣體決定了集成電路的終良率和可靠性。由于電子氣體用途多，用量大。所以電子氣體也直接決定了 終芯片的良率和可靠性，
特種氣體是工業(yè)氣體中的一個新興門類，是隨著近年來科學(xué)研究、自動 化技術(shù)、精密檢測，特別是微電子技術(shù)的發(fā)展而發(fā)展起來的。特種氣體的重要性：電子特種氣體決定了集成電路的終良率和可靠性。由于電子氣體用途多，用量大。所以電子氣體也直接決定了 終芯片的良率和可靠性，特種氣體在太陽能電池中的應(yīng)用：非晶硅太陽能 電池在 LPCVD 沉積 TCO 工序用到 DEZn、B2H6；非晶/微晶硅沉積工序用到 SiH4、PH3/H2、 TMB/H2、CH4、NF3 等。
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